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氮氣烘箱,百級潔凈烘箱在光刻軟烘烤工藝注意事項有哪些?
來源: | 作者:雋思半導體設備部 | 發(fā)布時間: 2023-10-07 | 644 次瀏覽 | 分享到:
氮氣烘箱,百級潔凈烘箱后涂覆烘烤工藝,也稱為軟烘烤或預烘烤,涉及在旋涂之后通過除去該過量溶劑來干燥光致抗蝕劑。

    光刻加工中涂布后,所得的抗蝕劑膜將包含20-40%重量的溶劑。后涂覆烘烤工藝,也稱為軟烘烤或預烘烤,涉及在旋涂之后通過除去該過量溶劑來干燥光致抗蝕劑。減少溶劑含量的主要原因是使抗蝕劑膜穩(wěn)定。

    在室溫下,光刻加工未烘烤的光致抗蝕劑膜將通過蒸發(fā)而損失溶劑,從而隨時間改變膜的性能。通過烘烤抗蝕劑,去除了大部分溶劑,并且該膜在室溫下變得穩(wěn)定。從光致抗蝕劑膜上去除溶劑有四個主要效果:(1)減小膜的厚度;(2)曝光后烘烤并改變顯影性能;(3)改善粘合性;(4)膜的粘性降低因此不易受到微粒污染的影響。

氮氣烘箱,百級潔凈烘箱用途:

    潔凈烘箱,百級無塵烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

氮氣烘箱,百級潔凈烘箱技術參數(shù):

無塵等級:Class100;     

溫度范圍:RT~200/450℃;      

工作尺寸(mm):

450×450×450

500×500×500

600×700×800(可定制)        

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