就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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潔凈烘箱，無(wú)塵烘箱在PEB工藝的應(yīng)用
來(lái)源:
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作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
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發(fā)布時(shí)間: 2024-02-22
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后曝光氮?dú)夂嫦?，PEB無(wú)塵烘箱應(yīng)用工藝
無(wú)塵烘箱所使用的高溫（100-130°C）會(huì)使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋.百級(jí)潔凈度無(wú)塵化，專(zhuān)用于半導(dǎo)體，集成電路。
一種減少駐波效應(yīng)的方法稱(chēng)為后曝光烘烤（PEB）。所使用的高溫（100-130°C）會(huì)使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋。重要的是要注意，高溫對(duì)光刻膠的有害影響，如上所述的PAB，也適用于PEB。因此，優(yōu)化烘烤條件變得非常重要。此外，曝光產(chǎn)物的擴(kuò)散速率取決于PAB條件-存在溶劑可以增強(qiáng)PEB過(guò)程中的擴(kuò)散。因此，低溫后曝光烘烤可以在給定的PEB溫度下產(chǎn)生更大的擴(kuò)散。
對(duì)于常規(guī)光刻膠，PEB的主要意義在于消除駐波的擴(kuò)散。對(duì)于另一類(lèi)稱(chēng)為化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的光刻膠，PEB是產(chǎn)生曝光和未曝光部分光刻膠可溶解度差異的化學(xué)反應(yīng)的必要組成部分。對(duì)于這些光刻膠，曝光產(chǎn)生一小部分強(qiáng)酸，它本身不會(huì)改變光刻膠的溶解度。在后曝光烘烤期間，這種光產(chǎn)生的酸催化了一種反應(yīng)，改變了光刻膠中聚合物樹(shù)脂的溶解度。對(duì)于化學(xué)增強(qiáng)光刻膠，PEB的控制非常關(guān)鍵。
后曝光氮?dú)夂嫦?，PEB無(wú)塵烘箱性能
潔凈度：Class100;
溫度：RT+15～300℃；
工藝氣體：N2
計(jì)時(shí)功能：0-99H99M99S
設(shè)備材質(zhì)：內(nèi)部SUS304不銹鋼
工作尺寸（mm）：
450×450×450(4)
500×500×550(6)
600×600×700(8)
（可定制）
網(wǎng)板：活動(dòng)式2塊
無(wú)塵烘箱，百級(jí)潔凈烘箱適用性：
氮?dú)夂嫦湟策m用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研.
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