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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦洌艹涞嫦?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS烘箱為什么在黃光區(qū)
來(lái)源:
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作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
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發(fā)布時(shí)間: 2024-04-01
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首先我們了解一下光刻為什么用黃光?
因?yàn)辄S光的波長(zhǎng)較長(zhǎng), 難以使得光刻膠曝光, 因此將黃光作光刻區(qū)域的照明光源。
避免干擾光刻工藝
在半導(dǎo)體微影制程中，實(shí)際使用的光源并非黃光，而是深紫外光（DUV）或極紫外光（EUV），這些短波長(zhǎng)光源用于精確地在硅晶圓表面的光刻膠上刻畫(huà)微細(xì)電路圖案。
保護(hù)敏感材料
半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中使用的某些材料可能對(duì)可見(jiàn)光譜中的某些波長(zhǎng)敏感，尤其是對(duì)紫外線敏感。黃光的波長(zhǎng)較長(zhǎng)，不易引起這些敏感材料的化學(xué)反應(yīng)。
視覺(jué)舒適性
黃光相較于藍(lán)光等短波長(zhǎng)光對(duì)人眼更加柔和，有助于減少長(zhǎng)時(shí)間在無(wú)塵室工作的員工因高強(qiáng)度照明產(chǎn)生的視覺(jué)疲勞。
光刻是集成電路（IC或芯片）生產(chǎn)中的重要工藝之一。簡(jiǎn)單地說(shuō)，就是利用光掩模和光刻膠在基板上復(fù)制電路圖案的過(guò)程。
硅片上涂有二氧化硅絕緣層和光刻膠。光刻膠在紫外光照射下很容易被顯影劑溶解，經(jīng)過(guò)溶解和蝕刻后，電路圖案就會(huì)留在基板上。
HMDS烘箱使用于光刻涂膠工藝
光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS烘箱的性能：
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤1torr
操作界面：人機(jī)界面
工藝編輯：可儲(chǔ)存多個(gè)配方
氣體：N2/HMDS，自動(dòng)控制
容積：40-210L
產(chǎn)品兼容性：2~12寸晶圓及碎片、方片等
HMDS烘箱適用行業(yè)：MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。
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