就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產(chǎn)品，
做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
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HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機(jī)
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
新 聞 動 態(tài)
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曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的
光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。
曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式，使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。
對于酚醛樹脂體系的光刻膠，PEB可以擴(kuò)散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且，PEB溫度不同時，感光劑的擴(kuò)散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時，消除駐波效應(yīng)最明顯。
對于化學(xué)放大型光刻膠，在后烘過程中，光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護(hù)反應(yīng)(Deprotection Reaction)，又稱為脫保護(hù)反應(yīng)。
大量實驗表明，烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時， 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能
加熱尺寸：220*220mm（可定制）,適用于?200毫米（8英寸）圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品；
溫度范圍：RT～300°C
溫度精度：0.1°C；
溫度均勻性：≤±0.5℃；
電動頂針調(diào)節(jié)高度: 0～30mm；
加熱臺表面：耐腐蝕硬質(zhì)陽極氧化鋁制成；
控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級PLC控制，實現(xiàn)在指定時間內(nèi)自動升降，可以定時取片；
無塵等級：Class100;
溫度范圍：RT～300/450℃；
溫度均勻度：200℃±3℃;
溫度波動度：±0.5℃（空載）
工作尺寸（mm）：
450×450×450
500×500×500
600×700×800（可定制）
可擴(kuò)展功能：
氧濃度檢測，無塵無氧烘箱
智能聯(lián)網(wǎng)功能，MES等工業(yè)自動化軟件
掃碼槍，掃碼溯源，一鍵讀取
自動門控，上位機(jī)程控，機(jī)械手搬運產(chǎn)品
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