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   氮?dú)夂嫦湓贗C封裝工藝中的用途

   隨著集成電路封裝對(duì)可靠性要求越來(lái)越高，裝片后烘烤對(duì)于產(chǎn)品可靠性的影響日益凸顯。烘烤過(guò)程中由于裝片膠烘烤產(chǎn)生的可揮發(fā)物污染及框架、芯片表面鋁層氧化異常,往往會(huì)帶來(lái)后續(xù)封裝過(guò)程中的朔封體分層、焊接可靠性不良等可靠性異常，是封裝過(guò)程中對(duì)封裝可靠性影響最大的工序之一。

   封裝過(guò)程中，裝片后的烘烤主要目的，是裝片膠在高溫條件下完全反應(yīng)，使芯片與框架基島之間達(dá)到需要的芯片剪切力。烘箱為一個(gè)密閉箱體，不工作狀態(tài)下為室溫;在放入產(chǎn)品后，烘箱會(huì)在一定時(shí)間內(nèi)升溫至固化溫度，并保持要求的時(shí)間后降溫;降溫至一定溫度后，取出產(chǎn)品,固化完成。

在這個(gè)烘烤過(guò)程中,一定要注意兩個(gè)因素:

(1）氮?dú)夂嫦涿芊庑粤己?以確保固化溫度的穩(wěn)定性及可控性;

(2）在烘烤過(guò)程中充入氮?dú)?，降低烘烤空間中的氧氣含量，防止氧化。

氮?dú)夂嫦湓贗C封裝工藝中使用的方法：

后蓋烘烤：使用潔凈烤箱（百級(jí)潔凈烘箱），需要控制烘烤的溫度和時(shí)間，溫度可達(dá)120～200度，時(shí)間需要1小時(shí)左右。

后烘烤：要控制好烘烤的溫度，一般80度左右，一定不能過(guò)高，還要控制烘烤的時(shí)間，一般60分鐘左右。

百級(jí)潔凈烘箱

無(wú)塵等級(jí)：Class 100;     

溫度范圍： RT+60～ +500℃；

溫度均勻度：±2%℃;    

溫度波動(dòng)度：±1℃（空載）        

溫控精度：±0.1℃;        

工作尺寸：350*350*350,450*450*450*,800*700*600（任意尺寸定制）     

電源：380v , 50Hz    

潔凈度：HEPA過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。

  潔凈烘箱，百級(jí)潔凈烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，IC封裝；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。